半导体蚀刻剂

本品为预先混好，随手可用的含有电子级质量的硝酸-HF酸混合液的蚀刻剂，用来蚀刻硅、锗、镓、砷化物以及其他半导体材料。   特殊硅蚀刻剂   产品号 蚀刻剂         蚀刻速率 RSE-100 缓慢蚀刻硅 20 Å /秒 RSE-200 蚀刻台面型晶体管 100 Å /秒   标准硝酸－HF酸蚀刻剂   产品号 蚀刻剂组成比 RSE-101 10：1 RSE-41 4：1 RSE-31 3：1 RSE-12 1：2   标准硝酸－HF酸－醋酸蚀刻剂   产品号             蚀刻剂组成比 RSE-533 5：3：3 RSE-511 5：1：1 RSE-111 1：1：1 RSE-322 3：2：2 RSE-1155 11：5：5 RSE-563 5：6：3，250 Å /秒，20℃蚀刻锗   装在聚乙烯瓶内出售，4×1加仑/箱，可提供专利配方。