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  • Tetrabutylammonium fluoride
半导体材料
通用环氧树脂
环氧树脂粘结剂
水性聚氨酯扩链剂
阴性光刻胶化学剂

阴性光刻胶化学试剂
供应光刻工艺各步骤使用的光刻胶化学试剂。高纯溶液和混合溶剂都经0.1μ过滤,供应时都同时提供分析证书。
 
NPR4040——阴性光刻胶冲洗剂是一种可有效冲洗暴光的阴性光刻胶的冲洗剂。
 
PKPⅡ型稀释剂PKPⅡ型光刻胶的稀释溶剂。
 
PKPⅡ型冲洗剂特别用于冲洗PKPⅡ型光刻
 
斯托达德溶剂(Stoddard)溶剂特别用于PKPⅡ型光刻胶。


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